Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
|
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
|
Нанотехнологии
|
Автор: Берлин Е.В.
Издательство: Техносфера, 2010
|
DOC, 528 страниц, 1.00 МБ
|
 Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии — реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
|
|
|
|
|
1915
 carabin
12 сентября 2015
|
|
Посетители, находящиеся в группе Гости, имеют ряд ограничений на скачивание книг. После регистрации будут доступны все ссылки для скачивания, а также скрыта реклама на сайте.
|
|
|
|
Посетители, находящиеся в группе Гости, не могут оставлять комментарии к данной публикаци.
|
|
|
|
|
Электронная библиотека книг
